
√ 超高精度检测
0.1μm级缺陷识别能力, 检出率 >99.5%,漏检率 <0.1%,减少漏检导致的晶圆报废损失
√ AI深度学习算法
动态优化缺陷分类模型, 自适应工艺波动,降低误报率, 缩短工程师调试时间
√ 高速全检能力
多相机并行扫描技术
√ 智能化软件平台
实时MES/EDA系统对接,一键生成SPC分析报告,加速质量追溯与制程优化闭环
解决3D NAND、FinFET等复杂结构检测难题
预防缺陷批次流入下道工序,降低千万级损失风险
提供缺陷分布热力图,助力工艺参数优化
满足洁净室Class 1要求